半导体生产是一个高科技产业，但是在生产过程中也会产生大量的废气，这些废气对环境和人体健康都有一定的影响，因此必须进行处理。那么，在废气处理工艺中，哪种方式呢？本文将为您详细介绍。

一、活性炭吸附法

活性炭吸附法是一种常见的废气处理方式，该方法适用于处理低浓度的有机废气。废气通过活性炭床层时，有机物质被吸附在活性炭表面，从而达到净化的目的。该方法具有投资成本低、操作简单等优点，因此在半导体生产中被广泛应用。

二、等离子体处理法

等离子体处理法是一种高科技的废气处理方式，该方法适用于处理高浓度的有机废气。废气通过等离子体反应器时，通过高能电子的撞击使有机物质分解成小分子，再通过催化剂的作用进一步分解，终达到净化的目的。该方法具有净化效率高、处理能力强等优点，因此在高端半导体生产中得到广泛应用。

综上所述，活性炭吸附法和等离子体处理法是半导体生产废气处理中的两种方式。在选择时应根据实际情况进行选择，以达到的净化效果。