半导体工艺废气治理是一项重要的环保工作，有效地控制和处理半导体行业的废气，是确保半导体行业的高效运转的重要手段。目前，半导体工艺废气控制的有效方法主要有冷凝、吸附、脱附、燃烧和反应等5种。

  1、冷凝：冷凝是常用的废气处理方法之一，它利用废气中的一定温度条件下的液态水的凝结，氧化物等污染物除去。

  2、吸附：吸附是利用吸附剂，重金属等污染物吸附在吸附剂表面，

  3、脱附：脱附是一种处理废气的物理方法，主要是利用温度的变化，重金属等污染物从吸附剂表面脱附，从而净化废气。

  4、燃烧：燃烧是一种常用的废气处理方法，它可以氧化物等污染物完全燃烧掉，

  5、反应：反应是一种特殊的废气处理方法，它利用废气中的有机物、氧化物等污染物，通过特定的反应条件，形成特定的产物，

  综上所述，半导体工艺废气治理有冷凝、吸附、脱附、燃烧和反应等5种方法，它们都可以有效地净化废气，从而达到环境保护的目的。此外，还需要注意选择合适的处理设备，以确保半导体行业的高效运转。

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