半导体尾气排放处理是半导体工业中的一个重要环节，它能够有效地减少半导体工业对环境的污染。而要达到这个目的，需要选择合适的设备进行处理。那么，半导体尾气排放处理用什么设备合适呢？

一般来说，半导体尾气排放处理主要有两种方式物理吸附和化学吸附。具体的设备选择也会因为处理方式的不同而有所不同。

物理吸附常用的设备包括活性炭吸附器、分子筛吸附器等。这些设备通过吸附半导体尾气中的污染物，达到净化的目的。其中，活性炭吸附器具有吸附能力强、使用方便等优点，广泛应用于半导体尾气处理中。

化学吸附则需要使用化学吸附剂，常用的有硝酸铜、氧化铜等。化学吸附剂可以与半导体尾气中的污染物反应，产生化学变化，将其转化为无害物质。这种方式的设备通常是化学吸附器，能够有效地净化半导体尾气中的污染物。

当然，在实际应用中，具体的设备选择还需要考虑到半导体尾气的成分、浓度、体积等因素。只有根据实际情况进行综合考虑，才能够选择合适的设备进行处理。