随着半导体工艺的不断发展，半导体工艺废气的治理问题越来越受到人们的关注。而要解决这个问题，选择适合的设备是非常重要的。那么，半导体工艺废气治理用什么设备呢？下面就由专家为大家详细介绍。

一、选择适合的治理设备

半导体工艺废气是一种复杂的气体体系，它包含了多种有害气体，如氟化物、氯化物、光刻胶等。因此，治理半导体工艺废气需要选择适合的设备。

目前，常用的治理设备有活性炭吸附、等离子体处理、湿式脱硫、催化氧化等。这些设备各有优缺点，需要根据实际情况选择。

二、活性炭吸附

活性炭吸附是一种常用的废气治理技术。它利用活性炭的微孔结构吸附有害气体，达到净化空气的目的。成本低等优点，但需要定期更换活性炭，否则会影响处理效果。

三、等离子体处理

等离子体处理是一种高效的废气治理技术。它利用等离子体的化学反应作用将有害气体转化为无害气体。反应速度快等优点，但需要专业人员操作，设备成本较高。

四、湿式脱硫

湿式脱硫是一种常用的废气治理技术。它利用化学反应将有害气体转化为无害气体。成本低等优点，但需要处理剂和水的投入，对环境有一定的影响。

五、催化氧化

催化氧化是一种高效的废气治理技术。它利用催化剂将有害气体氧化为无害气体。反应速度快等优点，但需要专业人员操作，设备成本较高。

综上所述，选择适合的半导体工艺废气治理设备需要根据实际情况进行选择，不能盲目跟风。同时，需要重视设备的维护和保养，才能确保设备的处理效果。